第18节（1 / 2）

2011年，美、德、日、意几个大国的第四代自由电子激光装置已经基本完成建设。而华国才刚开始批复项目建设，至今还未有属于自己的第四代自由电子激光装置！

盛明安对第四代自由电子激光光源倒是挺熟悉，因他前世研发光刻机，自然涉猎过构成光刻机核心技术之一的光源。

就目前而言，光刻机主流光源是激光等离子（lpp），因为西方的高端科技封锁政策，国内的lpp光刻机在学术上与国外壁垒相差实在太大。

但就未来发展而言，激光器将会碍于功率问题而限制光源制程，同时限制光刻机光源的更进一步发展，而解决方案就是第四代自由电子激光光源。

2006年，英特尔就曾提过利用fel技术进行光刻。

话题扯远了，就用最简单的话语来说明所谓的同步辐射光源吧。

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